PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術(shù)，該技術(shù)使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。

PVD涂層技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應(yīng)于三類PVD技術(shù)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備還具有三種類型：真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)，真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。在過去的十年中，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展迅速，并且已成為當(dāng)今最先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機(jī)通常是指真空離子鍍膜機(jī)。

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的具體原理是在真空條件下使用低壓，大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使目標(biāo)材料蒸發(fā)并使氣化的物質(zhì)和氣體電離，并利用電場加速功能，將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD涂膜層的特性，采用PVD涂膜技術(shù)鍍膜的膜層具有高硬度，高耐磨性（摩擦因數(shù)），良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性的特點(diǎn)，并且該膜具有更長的壽命。同時(shí)，薄膜可以大大改善工件的外觀和裝飾性能。

可通過PVD涂層電鍍的薄膜類型，PVD涂層技術(shù)是一種環(huán)保的表面處理方法，可以真正獲得微米級涂層而無污染。它可以制備各種單金屬膜（例如鋁，鈦，鋯，鉻等），氮化物膜（TiN，ZrN，CrN，TiAlN）和碳化物膜（TiC，TiCN）以及氧化物膜（例如TiO）等）。PVD涂膜層的厚度—PVD涂膜層的厚度為微米級，且厚度較薄，一般為0.3μm?5μm。裝飾涂膜層的厚度一般為0.3μm?1μm，因此幾乎不影響原始工件。在尺寸情況下，改善了工件表面的各種理化性能，以后不需要進(jìn)一步加工電鍍。

可以通過PVD涂層鍍膜的顏色類型-目前可以通過PVD涂層鍍膜的顏色為深金黃色，淺金黃色，棕色，青銅色，灰色，黑色，灰黑色，七種通過控制涂層過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制電鍍顏色，涂層結(jié)束后，可使用相關(guān)儀器測量顏色，以量化顏色，以確定電鍍的顏色是否符合要求。

PVD涂層與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）之間的異同之處在于，PVD涂層與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍之間的相似點(diǎn)和差異相似，兩者均屬于表面處理類別，一種材料以某種方式被另一種表面覆蓋。

PVD涂層技術(shù)是當(dāng)前主要的應(yīng)用行業(yè)，PVD涂層技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩類：裝飾性涂層和工具涂層。電鍍工具的目的是提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦因數(shù)，并增加工件的使用壽命，這方面主要用于各種切削工具，車刀（例如車刀，刨床，銑刀），鉆頭等，各種五金工具（例如螺絲刀，鉗子等），各種模具和其他產(chǎn)品。

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的主要特征和優(yōu)點(diǎn)與真空蒸發(fā)涂層和真空濺射涂層相比，PVD離子涂層具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1.薄膜層與工件表面具有很強(qiáng)的結(jié)合力，更耐用，更耐磨。

2.成膜速度快，生產(chǎn)效率高。

3.各種各樣的可涂層。

PVD技術(shù)的發(fā)展

PVD技術(shù)出現(xiàn)于20世紀(jì)70年代后期，制備的薄膜具有硬度高，摩擦因數(shù)低，耐磨性好和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速鋼切削刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了全球制造業(yè)的極大關(guān)注。在開發(fā)高性能和高可靠性的涂層設(shè)備時(shí)，他們還在硬質(zhì)合金和陶瓷切削刀具中進(jìn)行了更深入的涂層應(yīng)用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝溫度低，在600℃以下對工具材料的彎曲強(qiáng)度沒有影響。薄膜的內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適合于硬質(zhì)合金精密和復(fù)雜工具的涂層。

PVD涂層性能特點(diǎn)：

1.優(yōu)異的附著力-可彎曲90度以上而不會破裂或剝落（PVD涂層具有很高的附著力和耐用性）。其他技術(shù)，包括電鍍和噴涂，無法比擬。

2.可用于室內(nèi)裝飾或室外。

3.抗氧化，防腐。

上海PVD可以在不銹鋼，銅，鋅鋁合金和其他金屬上鍍金，黃銅，玫瑰金，銀白色，黑色，煙灰色，銅，棕色，紫色，藍(lán)色，酒紅色，青銅和其他顏色，可以根據(jù)具體要求提供所需的顏色和質(zhì)量。